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我公司专业研发生产 射频电源、匹配器系列产品,广泛应用于半导体工艺设备、等离子体刻蚀、等离子体清洗、等离子体发生、PECVD/CVD/PVD、薄膜沉积、射频溅射、医疗美容、科学研究方面。工作频率:13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz输出功率:300W、600W、1kW、1.5kW、2kW、3kW、6kW、8kW、10kW或定制 2. 关键特性A. 先进高效率、高稳

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产品详情

射频电源-1200.jpg

1. 产品概述

我公司专业研发生产 射频电源、匹配器系列产品,广泛应用于半导体工艺设备、等离子体刻蚀、等离子体清洗、等离子体发生、PECVD/CVD/PVD、薄膜沉积、射频溅射、医疗美容、科学研究方面。

工作频率:13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz

输出功率:300W、600W、1kW、1.5kW、2kW、3kW、6kW、8kW、10kW或定制

  

2. 关键特性

A.  先进高效率、高稳定性射频功放技术

B.  全数字控制,高稳定度和高可靠性

C.  稳定可靠的功放和直流控制模块

D.  具有驻波保护功能,能在负载出现异常后快速启动

E.  输出功率余量大,可长期稳定的工作

F.  具有精确的功率测量功能,能精确的测量入射和反射功率

G.  具有自动增益控制,能精准的控制输出功率

H.  支持本地控制和远程控制,远程控制采用RS485和RJ45网口

I.  采用先进的功放技术,输出功率可从50W至最大输出功率连续可调

J.   模块化结构设计,安装维修方便,节省空间,结构外形美观,大方

K.  支持实时功率和负载阻抗测量

L.  支持连续工作模式、脉冲工作模式

M.  完善的保护功能:过荷、过流、过温等保护


3. 商业应用

应用领域及行业:
光伏产业、化工业、制造业、平板显示器行业、半导体行业、科学研究等
等离子体清洗、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、等离子体刻蚀、射频离子源、等离子体扩散、等离子体聚合溅射、薄膜沉积、硅晶镀膜等


4. 产品图片

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